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传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？
传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？据传上海微电子明年将交付可以28nm制程工艺的光刻机，经过多重曝光可以制造11nm芯片。不过这个消息上海微电子的官方消息并没有披露或回应，还没有实锤，是否真是如此还显得扑朔迷离。
国内光刻机研发进度相对比较缓慢，但因为美国对我国科技的极端打压、以及特别是国外对我国高科技技术及产品的禁运，现在可以制造低纳米的高端光刻机显得又紧迫又非常有必要。上海微电子经过18年的发展历程，在低端光刻机市场拥有不小的份额，但在中高端光刻机市场还没有冲击力，目前还仅限于90nm级制程工艺。
国外ASML的EUV光刻机可以达到13.5nm的波长，可以达到7nm制程工艺的芯片制造，经过如台积电这样的厂家制造工艺技术的研发，甚至可以达到制造5nm的芯片。而相对来说，上海微电子的距离还相当远。
明年是否能够实现28nm制程工艺的光刻机，恐怕也是外界对于上海微电子的期许，也是上海微电子自身的需要，毕竟90nm级已经出来了十多年了，还几乎停止不前也有些不太合理。据传，28nm节点的光刻机是十三五规划项目，研发单位已经由中科院光电所研发解决光源、清华团队研发双工件台、浙大团队研发浸液系统、还有长春光机所研发透镜及曝光系统等，由不同的零部件制造厂家生产，这为上海微电子加速了28nm浸没式光刻机的出世。
如果上海微电子能够交付28nm的光刻机，经过多重曝光技术可以生产7nm的芯片，虽然产能效率要低一些但起码能够制造，不会因为美国的打压而让高端芯片陷入到将死的困境。它的交付使用也将极大的鼓舞和提升国内芯片产业的士气，反过来也会触发光刻机和上游产业更快的发展，真倒是希望上海微电子能够在明年交付28nm的光刻机是真的。
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国产光刻机如果能到11nm的程度，那么华为也不会陷入到“无芯可用”的尴尬境地。准确的说应该是研发微电子研发的28nm光刻机将在2021年正式落地，这款光刻机有生产11nm芯片的能力。
28nm光刻机在世界处于什么水平？
从光源上细分现在世界上光刻机的发展前后已经经历了五代，第四代光刻机使用的是波长为139纳米的Arf光源的光刻机，其制程工艺节点为130纳米-65纳米，45纳米-22纳米。如果从这点上看上海微电子研发的28nm的光刻机是一个标准的四代光刻机。
世界最先进的第五代光刻机使用的是波长为13.5纳米的EUV光源的极紫外光刻机，其制程节点为22纳米-7纳米。这个领域的产品基本上全被ASML把持着，无人能撼动其王者的地位。
虽然上海微电子和ASML差距极大，但是它在低端光刻机市场依旧表现不俗，并在国内占据了80%的市场份额。
上海微电子研发的28nm的光刻机有什么意义？
从目前曝光的信息上看，上海微电子研发的28nm的光刻机有生产11nm芯片的能力，这对华为来说绝对是一个天大的好消息。
目前台积电在加班加点的赶制华为最新麒麟芯片的订单，按照华为的公司战略，一般采购的芯片足够支撑公司两年使用。虽然最新的芯片采用了5nm的工艺，但是在11nm工艺的加工下依旧能用，当然不可避免的后果就是芯片体积变大、性能下降以及发热量提高，但是这比被完全被美国卡住脖子强太多了。
况且只要能熬过这几年，随着国家资源对光刻机领域的倾斜以及中美关系的改善，芯片问题也很可能会迎来新转机。
上海微电子多久能追上ASML现在的水平?
其实这点很多科技领域的专家都做过预测，追赶是肯定追赶不上ASML的脚步了，但是达到ASML现在的水平还是有可能的。当然专家们给了一个不太乐观的预测，那就是达到ASML现在的水平至少要10~20年左右。
ASML其实类似于一个组装工厂，它设计出来最新的光刻机后需要从全世界采购最先进的零件，进而拼装组成一台完整的光刻机。现在这些零件商把持着所有零件的销售，即使我们拿到了ASML的图纸，没有零件依旧白搭。
这意味着我们需要在光刻机的每个领域都要取得突破，除非得到国家的鼎力支持，否则光靠一个上海微电子还是过于势单力薄了。
不过上海微电子能研发出28nm的光刻机已经足够令人惊喜，既然被人卡住了脖子，那么只能撸起袖子加油干。求人不如求己，只要我国科技人的不断努力，不断取得突破，打破美国的枷锁，相信终有一天我们就可以彻底摆脱别人的掣肘！
早前确实有相关的报道说上海微电子装备有限公司预计2021年要推出28nm光刻机，但是这一消息官方并没有进行公布，也就是它的可信度并不是很高。目前上海微电子做的光刻机还是以90nm为主，28nm技术应该还是实现不了量产。
最近老美对于华为打压升级，让芯片、光刻机等东西变得非常热门，越来越条友开始关注我们国产光刻机究竟处于什么水平，能不能摆脱对美方技术依赖。而我们国产光刻机处于比较领先的还是上海微电子，关于这个水平一直受到人们争议。
一些媒体报道说国产光刻机目前能够达到5nm水平了，而一些媒体又说国产光刻机还是处于一个90nm阶段，而在2018年时也曾经报道下面这条消息。
中科院的“超分辨光刻装备研制”通过相关验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。
上面还是处于实验室阶段，也就是离真正商用量产还是需要不少时间来检验。而关于这个5nm和90nm水平，不少朋友应该是混淆了光刻机和蚀刻机这两个不同机器。中微半导体的蚀刻机确实达到了5nm水平，而国产光刻机仍然处于90nm水平。
现阶段来说上海微电子做的还是突破达到28nm水平，因此这个11nm消息可信度一点也不高。这里一部分条友会有疑问，中芯国际前段时间已经不是替华为代工14nm工艺芯片了（荣耀Play4T搭载这款芯片）
其实这里也要明白，中芯国际用的也是荷兰ASML光刻机。目前中芯国际得到了大量的资金投资，现阶段它主要目标还是突破7nm技术，也就是未来可以代工7nm工艺芯片。
小晴观点
对于光刻机这个东西是急不得，首先这个基础的28nm也没有突破，就想着说直接达到这个11nm，确实有点像做梦一样。
想要在光刻机有所突破，一方面要加大相关的研发投入，研发如果跟不上一切都是纸上谈兵。再次就是重视相关人才培养，注重相关技术积累，同时也需要两弹一星这样的精神，才能够最快速度突破。
对于我国来说，光刻机又是一项“卡脖子”设备。上海微电子能够量产90nm工艺的光刻机，而荷兰ASML最新的光刻机可以生产5nm芯片。最新消息，2021年上海微电子交付28nm光刻机，在多次曝光的条件下，可以生产11nm芯片。这是真的吗？下文具体说一说。
上海微电子最新光刻机
上海微电子即将交付的是一台ArF光源光刻机，核心配件全部来自于国内供应链：
- 光刻机物镜来自于北京国望光学；
- 光源来自于科益虹源；
- 侵液系统来自于浙江启尔机电；
- 双工件台来自于华卓精科；
这些核心配件由上海微电子负责总体集成，其中华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7nm，经过多次曝光有生产11nm制程工艺的潜力。中微半导体也推出了5nm制程的蚀刻机，南大光电研发出193nm光刻胶，华为自研的EDA进行了7nm验证。总之，国产11nm光刻机即将来临。
荷兰ASML光刻机
目前，光刻机领域的龙头企业是荷兰的ASML，占据了80%的高端光刻机市场，其中EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产。EUV光刻机集合了世界上最先进的技术，可以说是集人类智慧于大成。
其实，荷兰ASML也只是系统集成商，90%的关键零部件来自于外来，美国的光源和计量设备、瑞典的轴承、德国的镜头、法国的阀件等等，这些超精密的仪器和设备大部分对我国是禁运的。由于技术封锁，一定程度上阻挠了我国光刻机技术的发展。
荷兰ASML的光刻机，除了技术精湛外，产量非常低，EUV光刻机每年只能生产十多台。有一个不成文的规定，只有投资了自己，才能优先获得供货权。台积电、intel、海力士、三星等都是荷兰ASML的大股东，EUV光刻机也大部分进入了这些厂商。我国的中芯国际早在2018年就预订了一台EUV光刻机，然而受到多方面因素的影响，至今未收到这台光刻机。
总之，围绕国产光刻机的国内供应链国望光学、长春光机所、上海光机、科益虹源光电等，在关键子系统上实现了突破，很大程度上推进了我国光刻机的发展。上海微电子2021年推出28nm光刻机应该是实锤了。
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到此，以上就是小编对于中国芯片制造最新消息3nm真假的问题就介绍到这了，希望介绍关于中国芯片制造最新消息3nm真假的1点解答对大家有用。
