三纳米光刻机怎么样？
三纳米光刻机是目前最先进的光刻机，代表了半导体制造技术的最前沿。它可以制造出更小、更快的芯片，从而使电子设备更加强大和节能。三纳米光刻机也是全球半导体产业竞争的焦点，各国都在加大投入，希望能够掌握这一关键技术。三纳米光刻机具有较高的生产效率，可生产出更小、更快的芯片，是实现半导体产业持续发展的关键技术。
光刻机3纳米有什么意义？
3纳米，是指节点技术的关键尺寸，而这个尺寸不是芯片能用肉眼看到的几何尺寸(一般是毫米到厘米级别），而一般是指栅极长度（gate length）。
在我国自主造芯的过程中，半导体设备的重要性被无限放大，尤其是被誉为工业皇冠明珠的光刻机，是我们实现“中国芯”这一目标必须要跨越的“藩篱”。
大陆有光刻机吗？
中国有光刻机，
目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司，他可以做到最精密的加工制程是90nm，这个就是相当于2004年最新款的intel 奔腾四处理器的水平，但是相比较目前的7nm着实有些差距。
中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。
虽然ASML光刻机技术先进，但荷兰并不是一国之力就能制造的。 其中，光学仪器来自美国，透镜组件来自德国蔡司，另外5万个零件也依赖海外进口。
虽然中国已经突破了22纳米光刻机的技术，但与荷兰ASML公司的5纳米水平仍然有很大差距。 但是，技术总是从无到有，从有到优的过程，就像万事难以开始一样。 现在，国产光刻机已经有了良好的开端，相信不会让国民失望。 同时，中国在科技领域创造的奇迹已经不少了。
在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，使光束透过绘有电路图的掩模，用物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小映射到硅片上，用化学方法显影，刻在硅片上的电路图
