华为5nm光刻机是真的吗？
这个想法是真的，但是还没实现。
一是华为通过招募光刻机人才意欲打造自研5nm光刻机，前期评估预计两年内投入量产；另一个是华为召集数万人，每天工作12到16个小时，争取两年内实现14nm光刻机。咋一听，真的很鼓舞人心！有心的网友甚至还扒出2016年华为申请的一项名为“一种光刻设备和光刻系统”的PCT专利。这让更多网友相信，华为其实早在2016年就开始研究光刻机了。
华为5nm光刻机当然是假消息了，现在一些自媒体为了流量，喜欢夸大其词，制造热点，首先华为是家通讯公司，主要是进行通讯的研发，生产，并没有涉及到光刻机领域，其次，5纳米的光刻机是精密制造领域上的明珠，目前只有荷兰的阿斯麦尔能够制造，而阿斯麦尔制造的光刻机是集全球各国最顶尖的科技结晶
5纳米7纳米光刻机发明时间？
5纳米和7纳米光刻机的发明时间是不同的。
5纳米光刻机的发明时间是在2017年。
这是因为随着科技的进步，人们对于更小尺寸的芯片需求不断增加，而5纳米光刻机正好能够满足这一需求。
它采用了更先进的光刻技术，能够实现更高的分辨率和更精细的图案制作，从而实现了更小尺寸的芯片制造。
而7纳米光刻机的发明时间要早一些，大约是在2014年左右。
在此之前，10纳米光刻机是主流技术，但随着科技的不断进步，人们对于更小尺寸的芯片需求增加，7纳米光刻机应运而生。
它采用了更先进的光刻技术和更精密的设备，能够实现更高的分辨率和更小尺寸的芯片制造。
总的来说，5纳米和7纳米光刻机的发明时间分别是2017年和2014年左右。
这些先进的光刻技术的出现，推动了芯片制造技术的发展，满足了人们对于更小尺寸、更高性能芯片的需求。
我国最先进光刻机？
中国目前最先进的光刻机是上海微电子的SSA600系列。
SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。
